河南真空涂层加工价格

DLC(类金刚石)涂层技术是一种应用于冲切工具领域的专业技术。DLC涂层的工业化生产开始于20世纪末。与应用于模具上的硬质涂层(如TiN,TiAlN,CrN,TiCN等)相比是一种崭新的涂层技术。在半导体封装、管脚切割和成形制造过程中，高精度的模具是确保产品品质的关键。模具表面质量又决定了产品优良率、生产效率和产品电学性能等。所以，应用于半导体封装行业的模具不但要求高精度，同时也要求模具刃口件向表面低摩擦因数和高硬度的方向发展，而运用等离子体DLC涂层技术的涂层是这一问题的主要解决方案。

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PVD涂层对工件表面要求的工件或工具表面条件对涂层的性能有决定性的影响。优异的涂层质量如下。优质涂层工件需要研磨或抛光，并对运输进行防腐处理。一、磨削表面不能出现浅裂纹、氧化皮或再硬化烧伤。二、研磨过程中使用的冷却液不能含有磺酸钙、硼或碘化合物，或含硅的消泡剂。3、磨削表面、磨石磨削表面、抛光表面或磨盘磨削表面必须无磨料和残留物。首次使用时，刀刃必须无毛刺，以免断裂。五、在EDM电火花加工过程中，推荐多种表面处理方法，以减少白层的形成。6、表面必须是明亮的金属。腐蚀表面、棕色光制表面、蒸汽烧蓝表面或类似处理表面不能涂层。七、盲孔及内螺纹必须无硬化盐等污染物。八、碎屑、蜡、胶带、油漆等非金属杂质研磨粉清洗剂残留物，必须从工件上去除指纹和类似物。九、焊接接头和铜焊接头必须无气孔、焊剂和镉化物。十、工件要去磁。

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工艺：硬质合金涂层常用的方法是高温化学气相沉积法(简称HTCVD法)，是在常压或负压的沉积系统中，将纯净的H2、CH4、N2、TiCl4、 AlCl3、CO2等气体或蒸气，按沉积物的成分，将其中的有关气体，按一定配比均匀混合，依次涂到一定温度(一般为1000℃～1050℃)的硬质合金 刀片表面，即在刀片表面沉积TiC、TiN、Ti(C，N)或Al2O3或它们的复合涂层。反应方程式概括如下：TiCl4+CH4+H2TiC+4HCl+H2TiCl4+½N2+2H2TiN+4HClTiCl4+CH4+½N2+H2→Ti(CN)+4HCl+H22A1Cl3+3CO2+3H2→Al2O3+3CO+6HCl用PCVD(等离子体化学气相沉积)法在硬质合金刀片表面进行涂层也得到应用，因涂层工艺温度较低(700°～800°)，故刀片的抗弯强度降低的幅度较小，对铣刀片比较适宜。涂层前，基体刀片表面须净化，切削刃部位应钝化。涂层后，因涂层材料与基休材料的线膨胀系数存在差异，故涂层刀片表面不可避免地产生残余张应力而使刀片抗弯强度降低。通常用TiC薄层先涂在基体表面上，因TiC的线膨胀系数与基体材料接近；外面再涂TiN、Al2O3等。过去，单涂层材料均用 TiC，双层涂层材料多用TiC/TiN、TiC/Al2O3等，三层涂层材料多用TiC/Ti(C，N)/TiN、Tic/Al2O3/TiN等。近 年，随着基体材料的改进，涂层材料也有用TiN垫底的，即TiN/TiC/TiN等涂层材料还有HfN、MoS2等。

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二、PVD涂层工件的外观要求。1.工件外观无锈蚀、腐蚀、油漆、胶水、胶水。2.工件外观应明亮且未经外观改性(如化学电镀、氮化、发黑、TD或CVD等。3.工件表面粗糙度要求:在满足应用要求的前提下，模具和零件越光滑越好，成型面Raum为0.2um。4.工件不能是组装件，组装件需要分开涂层、螺钉、堵头等。5.工件有焊接处理，外观需要彻底清洗，无氧化层或埋孔，需提前指出，以评估涂层是否适用。6.PVD涂层前，提供涂层区域和涂层部位的示意图或图纸(包括哪些部位需要涂层，哪些部位不能涂层，哪些部位不在乎)。三、PVD涂层限制。我们的PVD涂层可以涂上形状复杂的工件，但内孔的深宽比(孔径与孔深之比)应超过1:1。