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真空金属化涂层的特点

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真空金属化涂层的特点

发布日期:2020-09-05 作者:lzy 点击:

真空金属化涂层不像在化学镀中那样均匀,但通常是足够均匀了。可以很容易标注并控制哪些区域沉积金属,哪些区域不沉积。这个过程产生具有优异的附着力和导电性的表面,这种方法的缺点是需要昂贵的专用设备。

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